1、雙面拋光機主要適用于磁性材料、半導體硅片、鍺片、光學玻璃、金屬材料及其它硬性和脆性材料的兩面高精度高效率的拋光。拋光原理為四動模式；兩個電機分別拖動上下兩個拋盤、太陽輪、內齒圈；設定控制采用 PLC調整；人機界面系統(tǒng)的顯示使用彩色 NT。龍門結構為箱形，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉平穩(wěn)，拋光時間根據計時器可隨意設定，采用了自動供給拋光液裝置。為了防止拋光過程對零件的破壞，在與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處

2、理。通過聯(lián)合精密型傳感器與氣動控制的高精密系統(tǒng)，使得壓力形成閉環(huán)反饋控制，以保證工件壓力的準確性。采用了強制集中潤滑對主要運動副進行潤滑。拋光液系統(tǒng)具有多個輔助功能系統(tǒng)，包括獨立攪拌系統(tǒng)、循環(huán)水冷卻功能、給拋光液升溫以及檢測拋光液實時溫度等功能，我們可選配不同的功能制做。
　　雙面拋光加工是晶片超平滑表面加工的有效途徑，受到了人們的廣泛關注，如何有效的獲得晶片超平滑表面成為了各界專家學者研究的熱點。雙面拋光機氣動加載系統(tǒng)能夠對晶片

3、超平滑表面加工進行精確的控制，提升晶片超平滑表面加工的質量。
　　加載裝置是雙面拋光加工的重要組成部分，決定了晶片超平滑表面加工的質量，本文依據實際的需求，對雙面拋光加工的控制系統(tǒng)進行了設計與實現(xiàn)。本文首先對雙面拋光機的基礎理論進行了介紹，對控制理論進行了研究；針對系統(tǒng)的硬件設計與軟件設計分別進行了詳細的闡述，對系統(tǒng)的功能與任務劃分進行了分析；文章以雙面拋光機為研究對象，提出了手動和自動控制兩種工作模式，設計了軟件的總體方案和系統(tǒng)