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![大氣等離子噴涂法制備高溫高紅外輻射率陶瓷涂層.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/986ae68a-3dbd-4ed0-a54e-3da81e829ff7/986ae68a-3dbd-4ed0-a54e-3da81e829ff71.gif)
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文檔簡介
1、高溫紅外輻射材料是指在高溫條件下向其周圍發(fā)射一定波段紅外光譜的陶瓷材料,具有多種優(yōu)異性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。目前,穩(wěn)定的尖晶石結(jié)構(gòu)紅外陶瓷材料已經(jīng)成為研究的熱點。有研究表明,要想提高高溫紅外輻射涂層的全發(fā)射率,必須提高短紅外波段的吸收系數(shù),降低散射系數(shù)。利用摻雜陶瓷工藝是制備高溫高輻射材料的可行途徑,經(jīng)過合理選材及合理的熱處理工藝控制晶粒大小、形狀以及密度,盡可能降低散射系數(shù),使材料表面的發(fā)射率得到進一步提高。
本論文在原有的實
2、驗基礎(chǔ)上改進了制備工藝,利用砂磨機將所有原始粉末混合后加水砂磨至粒度≤0.1μm,提高粉末的團聚率、流動性及松裝密度。本實驗以Cr_2O_3和NiO作為主要成分,摻雜一些特殊的稀土氧化物及其他輔助成分配成混合粉末后加水砂磨2個小時經(jīng)過噴霧造粒團聚成球,再將團聚粉末置于箱式高溫爐中焙燒得到所需的NiCr_2O_4尖晶石為主的復(fù)合型陶瓷粉末,然后采用等離子噴涂工藝在銅片表面制備出均勻的黑色高紅外輻射率涂層,最后在涂層表面采用鉻酸鍶鑭溶膠作封
3、孔處理。
利用粒度分析儀測試砂磨后的料漿粒度以確定最佳的砂磨時間。利用SEM掃描電鏡觀察粉末形貌,發(fā)現(xiàn)砂磨后的團聚粉末更小更圓,流動性和松裝密度更好。將樣品分別置于1000℃、1200℃、1400℃溫度下進行焙燒后采用XRD物相分析發(fā)現(xiàn)1400℃焙燒后的粉末生成的NiCr_2O_4尖晶石最多,且反應(yīng)較充分。分別摻雜了以氧化鋱為代表的的三種稀土粉末噴涂的涂層在600-1000℃的紅外輻射率測試最高為0.91。
對等離子
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