1、光刻技術(shù)是利用光刻膠感光后發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)特點(diǎn)，結(jié)合化學(xué)、物理刻蝕方法，將掩模板的圖形刻制到被加工表面上的技術(shù)。在光刻加工中，光刻膠涂覆是一個重要的技術(shù)環(huán)節(jié)。
　　本文針對大尺寸曲面光刻膠的涂覆，采用理論分析和實驗研究相結(jié)合的方法，對大尺寸凸曲面光學(xué)元件涂布光刻膠的可行性進(jìn)行研究。在霧化噴涂機(jī)理進(jìn)行分析的基礎(chǔ)上，結(jié)合凸球面的特性建立了光刻膠膜厚的數(shù)學(xué)模型。然后以數(shù)學(xué)模型為依據(jù)設(shè)計出一種可以用于凸球面基底涂膠的超聲波霧化噴涂裝置。

2、r>　　使用該裝置在口徑為100mm，曲率半徑為120mm的凸球面基底上進(jìn)行膜層厚度為5μm的涂覆實驗。所涂覆的光刻膠膜厚和均勻性都達(dá)到了所需的要求。文中同時對影響光刻膠膜厚的主要因素進(jìn)行了分析。
　　實驗結(jié)果表明：其他參數(shù)不變的情況下，光刻膠的噴射量存在一個臨界點(diǎn)。噴射量在臨界點(diǎn)以內(nèi)，光刻膠膜厚的數(shù)學(xué)模型可以預(yù)測膜層的生長。反之，膜厚的數(shù)學(xué)模型預(yù)測失??；當(dāng)噴嘴停留時間超過臨界值時期受到外界的干擾因素不斷的增加，從而使得噴涂的光刻