FCVA沉積(Ti,Al)N薄膜的工藝研究.pdf_第1頁(yè)
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1、本論文針對(duì)表面涂層技術(shù)在高速切削刀具中的應(yīng)用,對(duì)采用磁過(guò)濾陰極弧源沉積技術(shù)(FCVA)制備(Ti.Al)N薄膜的工藝,系統(tǒng)地進(jìn)行了研究。 在制備的過(guò)程中,通過(guò)改變氮?dú)獾牧髁?、基底偏壓、基體溫度,用磁過(guò)濾陰極弧源沉積技術(shù)(FCVA)先后在硅片、高速鋼和硬質(zhì)合金上制備了較高硬度的(Ti,Al)N薄膜,并隨之進(jìn)行了工藝評(píng)定。 利用AMBIOS XP-2臺(tái)階儀測(cè)量薄膜的厚度;使用X射線衍射(XRD)對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征;采用H

2、XD-1000顯微硬度儀、CSEM球盤(pán)摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、洛氏硬度儀等分別研究了薄膜的硬度、摩擦磨損和膜基結(jié)合力。 試驗(yàn)結(jié)果表明,采用Ti,Al原子比為1:1的靶材在不同的氮?dú)夥謮合轮瞥傻臉悠繁∧ぴ谟捕确矫嬗胁町悾诘獨(dú)夥謮簽?.1×10<'-1>pa左右時(shí)硬度達(dá)到最高點(diǎn),隨氮?dú)饬髁康脑黾映氏仍龈吆蠼档偷内厔?shì)。加熱環(huán)境下制備的薄膜結(jié)晶質(zhì)量好,致密度高,降低了薄膜的摩擦系數(shù),提高了薄膜的抗氧化性能。不同偏壓下薄膜的結(jié)構(gòu)和性能也不相同在

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