1、分子印跡聚合物是一種模擬天然受體識(shí)別能力的人工合成材料，其基本原理是將目標(biāo)分子作為模板，與功能單體、交聯(lián)劑一起發(fā)生聚合反應(yīng)生成高度交聯(lián)的聚合物，然后將印跡分子抽提出來，在聚合物的骨架上便留下了與印跡分子在空間結(jié)構(gòu)和化學(xué)官能團(tuán)均互補(bǔ)的識(shí)別部位(孔穴)。
　　 目前關(guān)于金屬離子印跡聚合物的研究報(bào)道有很多，但由于單個(gè)金屬離子體積小，結(jié)構(gòu)特征不明顯，所以文獻(xiàn)中一般都選用能和金屬離子形成配位鍵的功能單體，使功能單體和金屬離子通過配位鍵形成

2、特定的結(jié)構(gòu)。此外，很多金屬離子具有較高的電化學(xué)活性，所以不宜利用電化學(xué)方法來合成金屬離子印跡聚合物。本文利用螯合劑乙二胺四乙酸鹽(EDTA)跟金屬離子形成螯合物，抑制了金屬離子的電化學(xué)活性，然后以Metal-EDTA螯合物為模板，鄰苯二胺為功能單體，采用循環(huán)伏安法原位合成了Metal-EDTA印跡聚合物膜，合成的聚合物膜對(duì)模板分子具有很好的特異性結(jié)合能力，在重金屬檢測方面有一定的應(yīng)用前景。
　　 本論文主要研究工作歸納如下：

3、r>　　 1.對(duì)鄰苯二胺的電化學(xué)聚合條件進(jìn)行考察
　　 以循環(huán)伏安法研究了鄰苯二胺在不同pH值的溶液中電化學(xué)聚合的過程，利用紫外.可見吸收光譜對(duì)可溶性低聚物和高聚物薄膜進(jìn)行了表征，發(fā)現(xiàn)當(dāng)聚合溶液的pH值大于5.0時(shí)，有利于鄰苯二胺在電極表面形成聚合度較高的聚鄰苯二胺薄膜。
　　 2.在石英晶振片表面原位合成Metal-EDTA印跡聚合物膜
　　 利用循環(huán)伏安法在石英晶振片表面原位合成了Metal-EDTA印跡聚

4、合物膜，并利用紫外-可見吸收光譜、X射線光電子能譜、傅里葉紅外光譜和掃描電子顯微鏡等對(duì)合成的印跡聚合物進(jìn)行了表征，結(jié)果證明了Metal-EDTA螯合物被成功地包覆在聚合物中，且推斷出模板分子和聚合物之間主要通過氫鍵相互作用。利用差分脈沖伏安法證明了包覆在聚合物膜中的Metal-EDTA螯合物能夠被有效地洗脫，從而在聚合物中留下印跡孔穴。
　　 3.對(duì)Metal-EDTA印跡聚合物的特異性結(jié)合能力進(jìn)行研究
　　 利用石英晶

5、體微天平分別研究了Cu(Ⅱ)-EDTA、Zn(Ⅱ)-EDTA、Fe(Ⅲ)-EDTA和Cd(Ⅱ)-EDTA印跡聚合物的特異性結(jié)合能力。四種印跡聚合物對(duì)各自的模板分子均表現(xiàn)出了明顯的選擇性結(jié)合能力，并且石英晶體微天平的頻率響應(yīng)大小和溶液中模板分子的濃度在～10-6-～10-4 mol/L范圍內(nèi)呈線性關(guān)系，利用這段線性關(guān)系可以達(dá)到對(duì)不同金屬離子檢測的目的。此外，還計(jì)算了分子印跡聚合物對(duì)模板分子及其類似物的結(jié)合常數(shù)，并分析了影響其選擇性結(jié)合能力