1、過去幾十年來，微電子技術(shù)的高速發(fā)展以及各類應(yīng)用對(duì)電路性能需求的日益增長(zhǎng)使得現(xiàn)代集成電路系統(tǒng)的規(guī)模和復(fù)雜程度日趨提高，這必將對(duì)集成電路制造技術(shù)提出更高的要求。就當(dāng)今主流的集成電路制造技術(shù)而言，光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù)（Resolution Enhancement Techniques，RETs）使得制造比光刻所用光源波長(zhǎng)小兩到三倍的特征尺寸成為可能，現(xiàn)在193nm波長(zhǎng)的光源被用來生產(chǎn)65nm工藝的集成電路。光刻技術(shù)的極限已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了人們的想像

2、。在所有的光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù)中，光學(xué)鄰近修正（Optical Proximity Correction，OPC）是最為成熟以及應(yīng)用最為廣泛的一種。它通過修改掩模圖形的形狀來達(dá)到補(bǔ)償失真的目的。快速而高精度的修正算法、良好的版圖設(shè)計(jì)風(fēng)格以及精確的光刻模型是成功實(shí)施光學(xué)鄰近修正的關(guān)鍵。本文將會(huì)介紹在這三個(gè)方面所做的工作。 基于模型的光學(xué)鄰近修正算法（Model—based OPC，MBOPC）是一個(gè)迭代過程。迭代的收斂性同時(shí)取決于迭

3、代的初值以及迭代方向的選擇。為了提高算法的收斂速度以及收斂范圍，本文提出了一種新的矩陣式光學(xué)鄰近修正算法。新算法通過考慮邊之間的互相影響使得所選擇的迭代方向更為有效。本文也介紹了一些加快Jacobian矩陣計(jì)算以及線性方程組求解的方法，以進(jìn)一步提高新算法的計(jì)算速度。 本文提出了一種有較快的修正速度且有相對(duì)精確的修正精度的邊偏移建模方法。使用此方法可以為傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近修正算法提供較為精確的迭代初值。雖然新加入的初值計(jì)算步驟需要一定

4、的運(yùn)算時(shí)間，但是精確的迭代初值減少了收斂所需的迭代次數(shù)，從而可以有效地減少總的運(yùn)行時(shí)間。 成功的光學(xué)鄰近修正也依賴于版圖設(shè)計(jì)風(fēng)格。一些圖形組合難以通過修正而得到足夠的制造裕量，這些圖形通常被稱為OPC不友好的（OPC Unfriendly）。為了減少設(shè)計(jì)的回轉(zhuǎn)時(shí)間，設(shè)計(jì)者必須在將版圖送至代工廠之前盡可能多地找到OPC不友好的區(qū)域并加以修正。這一流程通常被稱之為光刻友好的版圖設(shè)計(jì)（Litho—friendly Design，LfD

5、）。本文介紹了兩種基于邊偏移建模方法構(gòu)建的OPC算法。修正速度快且易于使用的特點(diǎn)使得這兩種算法適于在光刻友好的版圖設(shè)計(jì)流程中使用。 基于部分相干理論的光刻成像系統(tǒng)建模方法早在幾十年前就被提出，并且在工業(yè)界得到了廣泛的使用。然而當(dāng)所制造的特征尺寸越來越小，光刻系統(tǒng)使用了更為高級(jí)的配置。這使得我們必須考慮更多的物理效應(yīng)來保持模型的精度，比如必須使用矢量成像模型來描述有高數(shù)值孔徑投射透鏡的系統(tǒng)。制造工程師必須通過修改模型的結(jié)果來建立新