基于二氧化硅的有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化材料及其在重金屬?gòu)U水處理中的應(yīng)用.pdf_第1頁(yè)
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1、重金屬水污染是最嚴(yán)峻的環(huán)境問題之一,為了去除水體中的有毒重金屬離子,許多本身對(duì)水體無(wú)毒無(wú)害,且對(duì)重金屬離子具有富集、絡(luò)合或催化降解等功能的新型雜化納米材料被不斷地開發(fā)和研究。二氧化硅作為一類形貌可控、表面易于修飾的多孔材料,可以很方便地通過物理或化學(xué)作用加以修飾,從而很好地發(fā)揮吸附及絡(luò)合重金屬離子的效果,因此基于二氧化硅的有機(jī)/無(wú)機(jī)雜化材料的制備及其在環(huán)境中污染物去除方面的應(yīng)用受到越來(lái)越多的親睞。本論文針對(duì)目前日益嚴(yán)重的重金屬?gòu)U水污染問

2、題和常規(guī)二氧化硅基雜化材料功能較為單一的現(xiàn)狀,制備了一系列基于二氧化硅的新型有機(jī)/無(wú)機(jī)雜化材料,用于水體中低濃度Cu(II)、Cr(VI)等重金屬離子的有效去除。
 ?。?)針對(duì)目前水體中難以去除的低濃度銅離子,首先合成核殼結(jié)構(gòu)的磁性納米粒子 Fe3O4@mSiO2并在其表面修飾了銅離子熒光探針以及豐富的絡(luò)合基團(tuán),得到的納米吸附劑 SDMA可用于水體中低濃度 Cu(II)的快速檢測(cè)及吸附去除。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,SDMA對(duì)Cu(II)具

3、有較好的選擇性,且對(duì)1.5mg/L的Cu(II)可達(dá)到80%的去除效率和較快的吸附速率(20 min內(nèi)可達(dá)到吸附平衡),對(duì)銅離子的吸附量要明顯大于等量的Fe3O4@mSiO2-SH和Fe3O4@mSiO2-NH2這兩種納米吸附材料。另外,該納米吸附劑可以在外界磁場(chǎng)作用下實(shí)現(xiàn)磁性分離,從而對(duì)材料進(jìn)行回收和重復(fù)使用。
 ?。?)含鉻工業(yè)廢水的排放對(duì)環(huán)境造成了嚴(yán)重破壞,對(duì)動(dòng)植物及人都有巨大的威脅。針對(duì)毒性較大的Cr(VI),本論文設(shè)計(jì)合

4、成了一種二氧化硅基的新型大孔雜化材料(SPNH-MOSF@SnS2)用于高效率去除水中Cr(VI)。該材料通過在大孔二氧化硅納米泡沫(MOSF)孔道中負(fù)載具有可見光催化降解性能的SnS2納米粒子,然后在MOSF表面修飾能光控識(shí)別性絡(luò)合Cr(III)的有機(jī)化合物SPNH,從而實(shí)現(xiàn)了將劇毒的Cr(VI)還原為低毒的Cr(III)并進(jìn)一步吸附Cr(III),最終達(dá)到將重金屬鉻完全從水中去除的目的。通過一系列光催化還原與吸附試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),低pH值的

5、環(huán)境利于SPNH-MOSF@SnS2對(duì)Cr(VI)的去除,而且只需通過改變照射光源便可控制SPNH的吸附—脫附過程,所以該材料能重復(fù)使用并保持高效率。
  (3)利用靜電紡絲技術(shù)制備膜材料以用于水體中低濃度 Cr(VI)的吸附與還原。先利用靜電紡絲技術(shù)和煅燒法制備出摻雜二氧化硅的碳纖維膜,再通過水熱法和二氧化硅接枝法分別在膜上修飾花狀 SnS2納米粒子與氨基,如此便制備出 FCNF/SnS2。FCNF/SnS2展現(xiàn)出較好的Cr(V

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