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文檔簡(jiǎn)介
1、在電容屏發(fā)展初期,市場(chǎng)上主要存在三大類嵌入式觸控面板,但其實(shí)都未曾投入大量生產(chǎn),即光學(xué)技術(shù)觸摸面板、電容技術(shù)觸摸面板和電壓技術(shù)觸摸面板。投射式電容技術(shù)自2007年蘋果iPhone應(yīng)用量產(chǎn)并且在手機(jī)市場(chǎng)上取得巨大成功開始,就逐步引導(dǎo)了觸控技術(shù)的發(fā)展潮流,并漸漸淘汰了電阻式觸摸屏,使其淡出了市場(chǎng)。現(xiàn)在業(yè)內(nèi)存在一定差異的是在投射式電容技術(shù)中,薄膜電極的位置設(shè)計(jì),最主流的兩種技術(shù)分別是On-cell和In-cell。
2012年,面板
2、廠商協(xié)同芯片供應(yīng)商開發(fā)了單層多點(diǎn)電極設(shè)計(jì)方案。我們將此技術(shù)和傳統(tǒng)的觸摸屏電極設(shè)計(jì)方案最對(duì)比,單層多點(diǎn)產(chǎn)品的再生產(chǎn)過程中只需要鍍一次膜,并不用做絕緣的架橋設(shè)計(jì)(Bridge)。單層多點(diǎn)圖案開始應(yīng)用于On-cell觸摸屏技術(shù),其最初開發(fā)的原因是為了改善生產(chǎn)和材料的成本,因?yàn)椴捎胦n-cell技術(shù)的產(chǎn)品可以省去一步工藝(節(jié)省一張 mask),而且可以節(jié)約傳統(tǒng)張膜中間的OCA/OCR(光學(xué)膠),單層多點(diǎn)圖案成了On-cell LCD的主流。當(dāng)面
3、板廠的嵌入式觸控面板采用單層多點(diǎn)圖案時(shí),由于僅需要一道光罩,致使其良率高于過去采用的單面ITO圖案。
現(xiàn)在單層多點(diǎn)技術(shù)在業(yè)界比較大的問題就是圖形可見問題。此問題會(huì)極大影響客戶的使用體驗(yàn),所以業(yè)內(nèi)將此產(chǎn)品定義為B級(jí)或不良品。如果此問題不能很好的解決,那么成本優(yōu)勢(shì)將不復(fù)存在。此文的研究方向是解決研究單層多點(diǎn)TP產(chǎn)品制造中ITO圖形可見的解決方法,希望能找到尋求較好的解決方法制成工藝來提高量產(chǎn)良率。
本文從制程角度分析了單
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