離子-表面相互作用過程x射線產(chǎn)生機(jī)制的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本工作采用能量為190keV-450kev的不同價(jià)態(tài)的Arq+(q=15~18)離子轟擊原子序數(shù)Z=4~79的金屬靶,對(duì)Ar離子的X射線發(fā)射機(jī)制進(jìn)行研究。文中依次對(duì)Ar17+離子,Ar16+離子,Ar18+離子和Ar15+離子進(jìn)行了分析。 主要的實(shí)驗(yàn)工作及結(jié)論如下: 對(duì)Ar17+離子的K殼層X射線分支比進(jìn)行分析,研究了Kβ/Kα分支比隨電荷態(tài)與能量的變化規(guī)律以及Kα和Kβ射線的平均能量。在級(jí)聯(lián)躍遷模型的框架下從理論上分析

2、了實(shí)驗(yàn)結(jié)果,得到Ar17+離子退激發(fā)過程中各殼層電子躍遷信息。 對(duì)于實(shí)驗(yàn)中觀測(cè)到的Ar16+離子的K殼層X射線。本文認(rèn)為Ar16+離子的K殼層空穴產(chǎn)生是內(nèi)部多電子激發(fā)造成的,并計(jì)算了在本實(shí)驗(yàn)條件下多電子激發(fā)的幾率。 通過對(duì)Ar16+離子與Ar17+離子X射線發(fā)射強(qiáng)度的對(duì)比分析,從理論上解釋了二者強(qiáng)度有5個(gè)量級(jí)差異的原因,證實(shí)了Ar16+離子發(fā)生多電子激發(fā)的可能性和處理問題中采用級(jí)聯(lián)躍遷模型的合理性。 對(duì)于Ar18

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