1、 太原理工大學碩士研究生學位論文CuO/AgBr 與 Ag/g-C3N4/AgBr 光催化劑的制備及其性質研究摘 要隨著全球能源匱乏，能源的高效利用與開發(fā)已成為人類發(fā)展的總趨勢。半導體光催化技術作為新型清潔技術應運而生。隨著近幾年的研究開發(fā)，光催化技術廣泛應用于污染物處理， 催化產(chǎn)氫以及光催化殺菌等領域。 AgBr作為新型半導體光催化劑，其禁帶寬度在 2.46 eV 左右，在可見光照射下電子-空穴分離，顯示出良好的光催化活性。然而，A

2、gBr 在光照后易產(chǎn)生單質銀(Ag0)，即具有光腐蝕性，這一特性制約了 AgBr 的穩(wěn)定性，影響其工業(yè)化應用進程。 科學家們通過一系列的改性方式以提高 AgBr 的光催化活性及穩(wěn)定性。本文即在此研究背景下， 以 AgBr 為光催化研究對象， 采用沉淀法以及水熱合成法分別合成出具有更高光催化活性及穩(wěn)定性的 CuO/AgBr 與Ag/g-C3N4/AgBr 復合光催化劑。通過 X 射線衍射測試(XRD)、紫外-可見漫反射光譜(UV-Vis)

3、、 熱場發(fā)射電子掃描顯微鏡(FESEM)、 光致發(fā)光光譜(PL)、X 射線光電子能譜(XPS)、 電子自旋共振光譜(ESR)、 紅外光譜(FTIR)等表征手 段 對 光 催 化 劑 進 行 分 析 。 此 外 ， 還 分 別 考 察 了 CuO/AgBr 和Ag/g-C3N4/AgBr 光催化劑可見光下對于目標降解物的降解活性及穩(wěn)定性。采用溴水再生法對光照后 CuO/AgBr 進行處理，所得結論如下：1．以 AgNO3 為銀源，KBr