基于氮?dú)獾入x子體技術(shù)的PDMS表面改性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)由于其具有良好的彈性、生物相容性、透光性、化學(xué)惰性、氣體滲透性,較低的加工成本以及很容易與玻璃等其他材料結(jié)合等特點(diǎn),目前已經(jīng)成為應(yīng)用最為廣泛的微流控芯片材料之一。但是PDMS由于具有較高的天然疏水性,限制了其在微流控芯片中的應(yīng)用。因此,本文將著重對PDMS表面改性進(jìn)行研究,同時(shí)結(jié)合微加工工藝,簡化加工制作微流控芯片的流程,使其能夠廣泛地應(yīng)用于微流控領(lǐng)域。
  首先

2、,對PDMS的結(jié)構(gòu)、基本性能以及成型工藝做了簡要介紹,并且對不同的氮?dú)獾入x子體改性工藝進(jìn)行了研究。通過水接觸角分析了腔室氣壓、處理時(shí)間和濺射功率對PDMS表面的改性結(jié)果的影響。增加功率、腔室氣壓和減少處理時(shí)間也有助于表面水接觸角逐漸減小,降低表面粗糙度,延遲疏水性恢復(fù)。但是功率不能太高否則表面會(huì)產(chǎn)生裂紋,導(dǎo)致表面粗糙度又迅速變大。
  其次,對PDMS本體和不同氮?dú)獾入x子體工藝改性的PDMS表面進(jìn)行了紅外光譜分析。通過分析得知PD

3、MS表面經(jīng)過氮?dú)獾入x子體改性后會(huì)產(chǎn)生氨基,氨基是連接在PDMS的碳原子上,并且隨著處理時(shí)間的增加,氨基會(huì)逐漸增多。通過X射線光電子能譜對改性前后的PDMS進(jìn)行分析,發(fā)現(xiàn)PDMS改性之后由于產(chǎn)生了氨基,表面碳原子和硅原子所占比例會(huì)有所下降。
  最后,設(shè)計(jì)制作了PDMS微流控芯片。利用傳統(tǒng)光刻技術(shù)加工SU-8光刻膠使其作為芯片微通道,并結(jié)合氮?dú)獾入x子體處理的PDMS完成微流控芯片的鍵合封裝。通過對鍵合機(jī)理進(jìn)行了研究,對不同改性工藝之

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