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![(TiAlZrNb)N多組元硬質膜的沉積工藝及性能研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/a2ee5026-3d90-4978-b7c6-5e17c7b83588/a2ee5026-3d90-4978-b7c6-5e17c7b835881.gif)
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文檔簡介
1、基于TiAlZrN硬質反應膜,在此基礎上添加Nb元素,通過改變沉積工工藝參數(shù)及氮氣分壓,獲得添加Nb元素對(TiAlZrNb)N硬質反應膜的作用。
本試驗采用多弧離子鍍技術,選用Ti-18Al-11Zr(at%)合金靶和Ti-25Nb(at%)合金靶,通過改變兩個合金靶電流、負偏壓及氮氣分壓等試驗參數(shù)在高速鋼(W18Cr4V)基體上制備出兩種膜層成分含量不同的(TiAlZrNb)N硬質反應梯度膜。分別對這兩種膜層進行檢測,利用
2、掃描電鏡(SEM)檢測和表征膜層表面形貌與成分,斷面形貌與成分以及利用X射線衍射(XRD)表征膜層相結構;利用顯微硬度計測量膜層硬度;通過膜層附著力劃痕儀檢測膜基附著力;而膜層抗熱震性能是在700℃條件下,利用SG2-5-12馬弗爐進行測試,研究了兩種成分不同的膜層在同載荷、同頻率及在室溫條件下的膜層的耐磨損性能,對磨損后的膜層表面形貌利用金相顯微鏡進行觀察。
研究表明:兩組膜層成分不同的膜層表面均勻,致密,與其他氮化物硬質膜
3、相比,膜層表面液滴數(shù)量明顯的減少且液滴尺寸也比較小。兩種成分下的膜層斷面N含量由基體到膜層表面逐漸增加,證明了在此試驗工藝下制備的多組元膜為N梯度反應膜。膜層斷面組織形貌為均勻的柱狀晶,兩種膜層厚度分別在1.4~1.8μm和1.1~1.5μm之間,且膜層厚度都隨偏壓的增加而略有減小。XRD分析表明,兩種膜層均具有B1-NaCl型的面心立方結構,擇優(yōu)取向均為(111)面。
力學性能方面:在偏壓150V時,兩種膜層硬度最高分別可達
4、到3200HV和3400HV且兩種膜的膜基附著力在各偏壓下都大于200N。
膜層抗熱震性表明,兩種成分的不同梯度膜中Al和Nb含量較多的膜層抗熱震效果更好。兩種膜層失效的最終模式都是因膜層表面產(chǎn)生微小裂紋,而后經(jīng)過裂紋擴展,變大最終導致膜層失效。
摩擦磨損性能檢測分析表明,兩組膜層均在偏壓為150V時,摩擦曲線摩擦系數(shù)有最小值,且摩擦系數(shù)曲線趨于平穩(wěn)。在相同偏壓下,隨著摩擦旋轉半徑增大,膜層的摩擦系數(shù)升高,并且膜層的
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