1、拋光作為光學元件光整加工的最終加工工序，是獲得高質(zhì)量光學元件的關(guān)鍵所在。氣囊拋光作為一種具有極大發(fā)展?jié)摿Φ某軖伖饧夹g(shù)，具有材料去除特性穩(wěn)定、接觸面積大、吻合性好、拋光精度與效率高等優(yōu)點。但是受到拋光氣囊尺寸限制，也會產(chǎn)生小磨頭拋光工具固有的波紋特征，即中頻誤差。中頻誤差的存在嚴重影響了光學系統(tǒng)的使用性能，因此對其相關(guān)技術(shù)進行研究已經(jīng)刻不容緩。本文研究光學元件表面形貌特征的提取技術(shù)，在此基礎(chǔ)上對常規(guī)拋光路徑加工后光學元件的中頻誤差進行

2、評價，圍繞中頻誤差的產(chǎn)生機理，指出拋光路徑規(guī)劃是抑制中頻誤差的關(guān)鍵。提出合理的拋光路徑規(guī)劃策略，通過仿真研究及大量的拋光實驗驗證其可行性。論文的研究工作包括以下幾個部分:
　　1.提出一種基于圖像處理的高度信息提取方法，用于快速準確的提取光學元件表面的高度分布數(shù)據(jù)，即利用MATLAB分析軟件，通過圖像輸入，圖像裁剪，建立基準數(shù)據(jù)庫，最終得到光學元件表面的高度分布數(shù)據(jù)。通過與激光干涉儀檢測得到的光學元件表面高度分布數(shù)據(jù)進行對比，驗證

3、該方法的正確性。
　　2.采用頻譜分析方法對光柵路徑、螺旋線路徑以及基于改進普里姆(Prim)算法的拋光路徑對光學元件中頻誤差的影響進行深入分析，探究中頻誤差的產(chǎn)生原因，提出控制光學元件中頻誤差的有效措施。
　　3.基于傳統(tǒng)路徑中頻誤差的產(chǎn)生機理分析，進行了拋光路徑降低中頻誤差的研究探索，提出并實現(xiàn)了自適應螺旋線路徑、等高線式路徑、自適應迷宮路徑、自適應皮亞諾路徑、分區(qū)自適應光柵路徑和隨機螺旋線路徑。
　　4.針對上述