1、隨著科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展，工業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量檢測(cè)要求越來(lái)越高，新的測(cè)量方法也不斷地涌現(xiàn)。本文利用激光作為干涉源，并依據(jù)泰曼—格林干涉原理和Zernike多項(xiàng)式波面重構(gòu)方法，設(shè)計(jì)并實(shí)做了一套干涉測(cè)量系統(tǒng)，該系統(tǒng)由圖像采集和圖像處理二部分組成。整個(gè)系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、量程大及測(cè)量精度高等優(yōu)點(diǎn)。
　　本文的研究工作與內(nèi)容主要包括以下幾個(gè)方面：
　　(1)根據(jù)工業(yè)應(yīng)用中對(duì)材料光學(xué)表面輪廓及參數(shù)測(cè)量的需要，分析各種表面輪廓測(cè)量方法，確定了以泰

2、曼—格林干涉裝置為基礎(chǔ)的光學(xué)表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。
　　(2)依據(jù)泰曼—格林干涉原理設(shè)計(jì)了干涉測(cè)量裝置的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。在分析各種影響因素的基礎(chǔ)上，通過(guò)計(jì)算，確定相應(yīng)光學(xué)元件的詳細(xì)參數(shù)，然后根據(jù)這些參數(shù)制作整套光學(xué)元件支架，形成光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)裝置。
　　(3)提出并實(shí)現(xiàn)了一種單幅干涉圓條紋自動(dòng)化處理方法，并對(duì)干涉圖的預(yù)處理技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的研究。針對(duì)濾波平滑、二值化、條紋細(xì)化、條紋修補(bǔ)、條紋跟蹤和標(biāo)記等過(guò)程中的算法進(jìn)行了研究與改進(jìn)，最

3、后獲得一幅連通性好的單像素干涉條紋圖。
　　(4)研究了光波波前重構(gòu)方法，將Zernike多項(xiàng)式波前重構(gòu)法用于干涉圖擬合光學(xué)干涉波面的處理中，并用Matlab編寫(xiě)了相關(guān)數(shù)據(jù)處理程序，該程序可以對(duì)待測(cè)樣品光學(xué)表面形貌及平整度等進(jìn)行分析處理。
　　(5)通過(guò)對(duì)浸鎳拋光盤(pán)基片的表面和鋁制拋光盤(pán)基片的表面對(duì)比測(cè)量，驗(yàn)證了儀器的精度及實(shí)用性。測(cè)量結(jié)果表明：PV的重復(fù)測(cè)量精度為0.084λ；RMS的重復(fù)測(cè)量精度為0.056λ；系統(tǒng)不確定