1、由于光學分辨率極限的存在，傳統(tǒng)的光學光刻技術已經很難滿足日益先進的光電子學的微細加工要求，為此需要發(fā)展新型的光刻技術。超透鏡光刻技術作為新近發(fā)展的一種高分辨率技術，因其成本低，有能力實現(xiàn)所謂的“完美成像”，目前受到廣泛關注。我們在自然科學青年基金項目（No:60906052）的資助下，對此技術展開了較為系統(tǒng)深入的理論和實驗研究。本論文側重于實驗研究，研究內容如下：
　　基于左手材料的基本特性，對完美成像的原理進行了推導，并將超透鏡

2、結構激發(fā)表面等離子體（SPP）耦合的機理與完美成像做了對比分析，系統(tǒng)地歸納了超透鏡成像理論。設計了可用于實驗的超透鏡光刻模型，并通過建立近場光學傳遞函數(shù)分析了各介質層參數(shù)對成像的影響，通過有限時域差分（FDTD）方法模擬超透鏡光刻成像，驗證了結構模型的可行性。
　　為了獲得微納米級的掩模版，對經濟便捷的膠體微球自組裝方法進行了研究。嘗試了利用無皂乳液聚合法制備聚苯乙烯（PS）微球，獲得了單分散性小于15％的PS球。討論分析了影響P

3、S球自組裝效果的因素，提出一種新型PS球自組裝方法，可簡單高效地獲得大面積緊密堆積的PS球單層膜，無缺陷面積達100μm2以上。
　　使用掃描電子顯微鏡（SEM）等儀器對超透鏡結構的制作和光刻實驗過程進行了詳細的描述表征。首先利用自組裝和鍍膜沉積結合的方法制作了納米級的三角形陣列掩膜，然后是制作超透鏡結構，包括旋涂上間隔層、沉積銀膜、下間隔層，最后是光刻成像實驗。討論分析了聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）和光刻膠在不同轉速下的厚度、均