1、磁控濺射技術是一種給基體施加負電壓的真空鍍膜工藝，增強物體的耐磨、抗氧化性和抗腐蝕性。磁控濺射設備一般包括磁控濺射電源和真空沉積室等。磁控濺射工藝中，給基體加上脈沖電壓，與直流電壓相比，得到的薄膜性能更好。
　　與直流磁控濺射相比，脈沖磁控濺射的濺射效率高、工藝性能好，但等離子體負載的非線性，導致負載電壓上升時期產(chǎn)生振蕩。本文在掌握磁控濺射等離子體負載等效電路模型的基礎上，從理論上分析了產(chǎn)生振蕩的原因。由此，本文設計了一種基于頻響

2、分析法的脈沖電源與容性負載之間匹配電路，有效減小了脈沖電壓前沿的振蕩。最后，對該方法進行了仿真分析和實驗驗證，結果表明該方法在抑制振蕩的同時，提高了脈沖電壓的上升速率，保證了薄膜穩(wěn)定沉積。
　　在磁控濺射工藝中，使用超窄脈沖電源進行高精度鍍膜加工，當脈沖頻率提高至數(shù)百千赫茲，使脈沖寬度達到納秒甚至皮秒級別時，皮秒級分辨率脈沖電壓將鍍膜工藝在更高的電流密度和更小的加工間隙下進行，從而獲得瞬間高濺射電壓，阻止電荷積累從而引發(fā)弧光放電，

3、最終電子能夠獲得更高的遷移率，沉積得到的膜層致密性較好，而且膜層更加均勻。因此，本文設計了一種基于FPGA的高分辨率DPWM發(fā)生器，然后進行帶死區(qū)時間分時控制，最終可輸出8路高分辨率脈沖信號。該脈沖經(jīng)過信號放大后驅(qū)動斬波IGBT開通和關斷，對主電路的直流電壓斬波，最終輸出分辨率達到皮秒級的脈沖電壓。
　　最后，以ALTERA公司的Cyclone IT系列FPGA為載體，用示波器測量DPWM發(fā)生器的輸出波形和分時控制信口。將測量結果