1、光學對位技術是光刻技術最重要的技術之一，其對位精度和速度一定程度上決定了產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)率，因此研究和探索高精度的光學對位方法尤為重要。
　　 基于本課題組現(xiàn)有的激光投影光刻機進行了光刻實驗，并且達到了預想成果：經(jīng)過顯影后的PCB基板的線寬為15μm，邊緣清晰，并且通過一系列的實驗，找到了針對本試驗系統(tǒng)的最佳曝光條件：在距離激光定位工作臺為8cm的位置上，通過激光投影物鏡系統(tǒng)的前提下，當激光器的重復頻率為15Hz，基板的曝光時間

2、20s，顯影時間為60s以及顯影溫度為30攝氏度可以達到最佳曝光。
　　 由于現(xiàn)有的光刻系統(tǒng)缺乏光學對位系統(tǒng)，在現(xiàn)有條件基礎上，自行設計并使用了一套行之有效的光學對位系統(tǒng)，該光學系統(tǒng)的對位精度達到2μm，可以實現(xiàn)XYZ三個維度的調(diào)節(jié)。該光學系統(tǒng)的創(chuàng)新之處體現(xiàn)在不再采用機械方法進行自動調(diào)焦，而是利用實驗過程中總結(jié)的關于焦深及焦平面的規(guī)律對對位方法中的自動對焦算法進行了改進。
　　 結(jié)合現(xiàn)有的光學系統(tǒng)，選擇光度型光學對位系統(tǒng)