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![低溫取向硅鋼底層質(zhì)量的研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/17/aa63e0a4-55ee-4988-b65e-9e3b09c1feb8/aa63e0a4-55ee-4988-b65e-9e3b09c1feb81.gif)
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文檔簡介
1、冷軋取向硅鋼是一種重要的金屬軟磁材料,主要用于機電和能源行業(yè),是電力變壓器的主要原材料。取向硅鋼對生產(chǎn)設備和技術要求非常高,其產(chǎn)品質(zhì)量通常被看作是衡量一個國家特殊鋼制造水平的重要標志。
作為新一代的普通取向硅鋼,含Cu低溫取向硅鋼除了具有鐵損低、磁感高的特點外,還具有工藝性能好、高效節(jié)能等特點。但正是由于生產(chǎn)工藝的其特殊性,限制了其表面Mg2SiO4玻璃膜底層(又稱硅鋼的底層)的質(zhì)量的提高,因此如何提高硅鋼成品的底層質(zhì)量是生產(chǎn)
2、這類產(chǎn)品的最關鍵也是難度最大的問題。
本文通過對含Cu低溫取向硅鋼生產(chǎn)工藝及底層形成條件的研究,從MgO涂層工藝和高溫退火工藝兩個方面提出了改善底層質(zhì)量的措施。高溫退火工藝過程包括一次升溫、低保溫段、二次升溫、高保溫段和冷卻段,其中低保溫段對底層形成至關重要,本文提出將原來650℃的高溫退火的低保溫溫度提高到700℃來促進底層的形成;另外,在MgO涂層工藝中,采用在MgO涂層配方中加入一定比例的納米級MgO和采用靜電噴涂MgO
3、的工藝進行MgO涂層兩種改進方案。結(jié)合低溫取向硅鋼的生產(chǎn)工藝,通過對比實驗來研究以上不同方案對底層質(zhì)量和產(chǎn)品性能的影響。
實驗研究表明:采用700℃的更高的低保溫溫度,有利于SiO2氧化層的形成,改善Mg2SiO4底層質(zhì)量,但有可能損害磁性能的穩(wěn)定性;納米級MgO的加入提高了MgO的反應活性,對Mg2SiO4底層質(zhì)量的改善有顯著的效果,但是加入量過多則會因為含水率的提高而對產(chǎn)品的磁性造成影響;采用靜電噴涂可以避免輥涂工藝的一些
4、不利因素,生產(chǎn)出的硅鋼具有更好的表面質(zhì)量,其表面更加的平滑、Mg2SiO4底層更加的均勻,而磁性能相比傳統(tǒng)的工藝并沒有受到太大的影響;在靜電噴涂MgO工藝中,噴涂前在鋼板表面噴一層很薄的水,增加了結(jié)晶水在底層形成中的作用,防止底層出現(xiàn)大面積的露晶;在靜電噴涂MgO粉末之前,在鋼板表面噴一層SiO2溶液代替水則會因直接增加了SiO2的量而得到更加完整的底層。
本文在改進低溫取向硅鋼底層質(zhì)量方面提出了創(chuàng)造性的改進方案,并獲得了良好
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