掃描微電極法研究2024 Al合金局部腐蝕及Ce鹽局部成膜機理.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該文應(yīng)用自行研制的具有微米分辨率的掃描微電極測試系統(tǒng)(Scanning micro-electrode measuring system)原位測定2024 Al合金在NaCl溶液中局部腐蝕過程金屬表面微區(qū)電位和pH分布,并結(jié)合SEM及XPS等其它表面分析技術(shù),試圖深入研究2024Al合金局部腐蝕早期過程機理,探明2024Al合金在CeCl<,3>溶液中,合金表面Ce鹽局部成膜及緩蝕機理.研究結(jié)果可歸納如下:一、2024Al合金局部腐蝕機

2、理;2024-T3Al合金受第二相顆粒影響,在含Cl<'->的侵蝕性介質(zhì)中容易發(fā)生局部腐蝕.掃描微參比電極(SMRE)技術(shù)可在一定的時間和微米空間分辨度上原位測量2024Al合金局部腐蝕發(fā)生早期過程的的微區(qū)電位分布.研制了一種新型的復(fù)合型掃描微IrO<,x>-pH電極.二、Al合金表面Ce鹽成膜及緩蝕機理;由于Ce轉(zhuǎn)化膜耐蝕性能優(yōu)良,對環(huán)境友好而倍受關(guān)注.但目前對Ce轉(zhuǎn)化膜的成膜和緩蝕機理尚沒有定論.因此,該文采用掃描微電極技術(shù),并結(jié)合

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