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![面向MEMS的多孔硅基溫度傳感器研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/17/c3cb87bd-5073-4b8e-a8ef-414108006355/c3cb87bd-5073-4b8e-a8ef-4141080063551.gif)
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1、多孔硅(PS)特有的微結(jié)構(gòu)使其廣泛應(yīng)用于微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)加工技術(shù);而其獨(dú)特的半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)又使其在光電器件領(lǐng)域具有很大的發(fā)展?jié)摿?。目前,?guó)內(nèi)外有關(guān)多孔硅基傳感器的報(bào)道已經(jīng)很多,例如:多孔硅基氣敏,濕敏,熱流量傳感器等。但利用多孔硅絕熱性能研究溫度傳感器還比較少,尤其是國(guó)內(nèi)還處于起步階段。本文研究了多孔硅基傳感器設(shè)計(jì)及制作過(guò)程中的關(guān)鍵性問(wèn)題,包括:應(yīng)用于溫度傳感器的多孔硅的絕熱性能研究。多孔硅的表面及斷面形貌研究。多孔硅與金屬接
2、觸特性。并以研究為基礎(chǔ),優(yōu)化工藝流程,設(shè)計(jì)制作多孔硅基溫度傳感器,驗(yàn)證了多孔硅良好的絕熱性能。 ⑴實(shí)驗(yàn)采用雙槽電化學(xué)法制備多孔硅,場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀(guān)測(cè)樣品表面及斷面形貌,顯微拉曼光譜法測(cè)量多孔硅熱導(dǎo)率,研究多孔硅的制備條件及高溫氧化處理?xiàng)l件對(duì)其絕熱性能的影響,利用濺射鍍膜的方法形成多孔硅與金屬的接觸結(jié)構(gòu)并測(cè)量結(jié)構(gòu)的串聯(lián)電阻。 ⑵研究發(fā)現(xiàn),多孔硅的孔隙率,厚度,微晶粒尺寸等是影響其絕熱性的主要因素,各個(gè)因素影響絕熱性能的機(jī)制
3、是不同的。其中,多孔硅層厚度直接與其絕熱性能相關(guān),而孔隙率與晶粒尺寸則是通過(guò)熱導(dǎo)率間接影響絕熱性能;高溫氧化會(huì)改變多孔硅的熱導(dǎo)率;多孔硅與金屬接觸既非理想的歐姆接觸,也不是普通的肖特基接觸,是多種機(jī)制混合作用的結(jié)果。其伏安特性曲線(xiàn)表現(xiàn)出類(lèi)似肖特基勢(shì)壘二極管的整流特性,并且具有雙向整流作用。 ⑶利用多孔硅良好的絕熱性能,根據(jù)熱電偶塞貝克效應(yīng)原理,設(shè)計(jì)多孔硅基熱電偶傳感器的結(jié)構(gòu),并優(yōu)化工藝流程,完成了傳感器的制作,通過(guò)測(cè)量熱電勢(shì)信號(hào)
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