1、光刻是大規(guī)模集成電路的制造過程中最為關鍵的工藝，光刻物鏡是光刻的核心，其性能直接決定了光刻的圖形傳遞能力。大視場投影光刻物鏡是目前光刻物鏡研究發(fā)展的一個方向，用來制作大面積、高分辨率的印刷板線路，其設計加工的要求比較高。本文首先對光刻物鏡的整個背景作了介紹，并且根據光刻物鏡研制中做重要的一個參量——分辨率，闡述了光刻物鏡的技術發(fā)展過程和未來的發(fā)展趨勢。 論文的主要工作是大視場投影光刻物鏡畸變檢測方法的研究。提出了針對大視場投影光

2、刻物鏡畸變的計算方法，并在完成的畸變特性測量裝置上進行了8英寸的硅片測量。在這個基礎上，分析了光刻物鏡的畸變特性，對研制完成的物鏡我們檢驗了其暴光分辨率和畸變特性，達到了系統(tǒng)設計的指標要求。 此外，論文針對研制的8英寸視場的投影光刻物鏡，從光學設計要求出發(fā)，分析了影響光學系統(tǒng)成像質量的各種主要誤差因素。通過ZEMAX軟件確定了我們的鏡頭的光學設計結果。并且進一步地，通過ZEMAX模擬，確定了加工容差，并對其加工和裝校過程作了闡述