20A-600V硅基JBS整流管的研制和一種40mA-120V垂直溝道CRD的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩72頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、JBS肖特基整流管由于具有高擊穿電壓、低漏電流、低正向壓降及抗浪涌電流強等優(yōu)點,在移動通訊、電源及高頻大功率電子電路中有著廣泛的應用。恒流二極管(CRD)由于價格便宜、恒流性能優(yōu)良、使用方便等優(yōu)勢,是構成各種電子設備的恒流源、保護電路的重要組成部分。近年來,隨著發(fā)光二極管(LED)產業(yè)的飛速發(fā)展,越來越多的使用者將JBS肖特基整流管與CRD應用于LED供電線路中,使二者同時也得到快速發(fā)展,本論文對二者分別進行了相應的研究,主要開展的工作

2、如下:
  1、設計并成功制備了一種20A/600V硅基JBS肖特基整流管。有源區(qū)采用了蜂窩狀分布結構,邊緣采用了場限環(huán)、TEOS-BPSG、多晶硅和SiO2復合型終端結構,經過測試發(fā)現(xiàn),在正向壓降不大于1.5V的情況下,正向電流可達到20A;反向擊穿電壓(在反向漏電流不大于100μA情況下)可達到600V。并對其溫度特性進行了研究,結果表明:隨著環(huán)境溫度的升高,器件的正向壓降不斷降低;反向擊穿電壓不斷增高,反向泄漏電流也逐漸增大

3、。
  2、設計了一種40mA/120V硅基垂直溝道環(huán)形分布擴散結恒流二極管。有源區(qū)設計為P+環(huán)相間分布的形式,終端采用了場限環(huán)結構。通過Atlas數(shù)值仿真工具對恒流二極管的P+擴散區(qū)間距、擴散結深等參數(shù)進行了相應的數(shù)值模擬,并對器件的溫度特性進行了研究。通過初步的工藝制備并測試發(fā)現(xiàn),器件未達到預期的恒流目標。經過數(shù)值仿真及理論分析,發(fā)現(xiàn)造成器件性能較差的原因主要是P+擴散區(qū)結深不夠及P+擴散區(qū)形貌分布不佳,使得溝道長寬比不能滿足

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論