紫外激活過硫酸鹽降解水中莠滅凈研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩71頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、近年來,農(nóng)藥類有機污染物在不少國家水體中頻繁檢出,其對人體及生態(tài)安全造成的威脅已經(jīng)引起學者的廣泛關(guān)注。本研究選取典型三嗪類除草劑莠滅凈(AMT)為目標污染物,通過對比研究紫外(UV)、紫外激活過硫酸鹽(UV/PS)與紫外激活過一氧硫酸氫鹽(UV/PMS)三種不同工藝對AMT的去除效果以及反應動力學模型,得出最佳去除工藝,進而深入研究水中常見物質(zhì)對該工藝降解AMT的影響,推測其降解路徑及降解產(chǎn)物,并采用響應面分析法對AMT降解工藝條件進行

2、優(yōu)化,得出最優(yōu)工藝條件,為該技術(shù)的實際應用提供參考價值。
  研究表明,UV、UV/PS、UV/PMS三種系統(tǒng)下AMT降解均符合準一級反應動力學模型(R2≥0.93)。隨著底物初始濃度的增加,AMT降解率減小,準一級動力學表觀速率常數(shù)kobs減??;增加氧化劑的投加量可以促進AMT降解;溶液pH的改變對UV系統(tǒng)下AMT的降解影響較小,而在UV/PS系統(tǒng)下,隨著pH的增大降解率逐漸減小,在UV/PMS系統(tǒng)中降解率則呈現(xiàn)先減小后增大的趨

3、勢。pH為7時,UV/PS和UV/PMS系統(tǒng)中反應生成的自由基主要是?SO4-。AMT在三種不同系統(tǒng)下降解率基本遵循 UV/PS>UV/PMS>UV規(guī)律。通過電能效率(EEO)對三種工藝進行經(jīng)濟效益分析,發(fā)現(xiàn)UV/PS降解AMT得出的EEO值最小,說明UV/PS工藝最經(jīng)濟有效。
  考察水中常見物質(zhì)對UV/PS降解AMT的影響,發(fā)現(xiàn)水中Cl-濃度為5mmol/L時,會抑制AMT的降解,而其他濃度的Cl-對反應的影響并不明顯;隨著H

4、CO3-濃度的增加,kobs逐漸減?。籒O3-會加快AMT的去除,當其濃度為200mmol/L時對AMT降解的促進作用變?nèi)酰浑S著腐植酸質(zhì)量濃度的增加,kobs逐漸減小。AMT在超純水中的降解率高于其他實際水體中的降解率。UV/PS系統(tǒng)降解AMT過程中主要的降解產(chǎn)物可能是2-甲硫基-4,6-二氨基-1,3,5-三嗪和2-羥基-4-乙氨基-6-異丙氨基-1,3,5-三嗪。
  采用Box-Behnken響應面法對UV/PS降解AMT進

5、行工藝優(yōu)化??疾炝说孜锍跏紳舛龋?~20μmol·L-1),pH(3~9),溶液中 Cl-濃度(20~180mmol·L-1)三因素對AMT降解的kobs的影響。響應面分析表明kobs與三因素關(guān)系符合二次多項式模型。初始底物濃度和pH的一次項和二次項、Cl-濃度的一次項、初始底物濃度和pH以及初始底物濃度和 Cl-濃度的交互作用對 kobs具有顯著影響。通過優(yōu)化得到最佳工藝參數(shù)為:底物初始濃度為4μmol·L-1,初始pH為6.88,C

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論