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1、本文基于單層微橋法評(píng)價(jià)薄膜力學(xué)性能的基本原理,采用數(shù)值計(jì)算的方法,提出了適合于微橋?qū)嶒?yàn)樣品尺度的設(shè)計(jì)方法,以及適用于實(shí)驗(yàn)及小撓度理論計(jì)算的載荷、撓度范圍的選擇方法。首先,提出了彈性撓度、載荷和小撓度理論載荷、撓度極限的基本概念及計(jì)算方法,并以此作為不同尺度樣品相互比較的參照從而來(lái)確定適合于微橋?qū)嶒?yàn)的樣品長(zhǎng)度和厚度,結(jié)合納米壓痕儀實(shí)驗(yàn)參數(shù)來(lái)確定樣品的寬度。根據(jù)對(duì)可能彈性模量及殘余應(yīng)力范圍內(nèi)的撓度、載荷極限變化規(guī)律的研究結(jié)果,提出了估計(jì)實(shí)驗(yàn)
2、載荷、撓度極限范圍,以及適用于小撓度理論計(jì)算的載荷、撓度極限范圍的方法。進(jìn)一步地,采用以上方法選擇了合適尺度的微橋樣品,采用MEMS技術(shù)制備了電鍍拉應(yīng)力NiFe、Ni及Cu薄膜微橋,采用上述理論計(jì)算了實(shí)驗(yàn)載荷、撓度范圍以及小撓度載荷撓度范圍,并采用小撓度理論公式對(duì)其力學(xué)性能進(jìn)行了評(píng)價(jià),證明了以上方法的可行性。此外,在單層薄膜微橋法基本理論的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步推導(dǎo)了雙層復(fù)合(A/B)n型多層薄膜微橋法撓度-載荷的基本關(guān)系式,為評(píng)價(jià)微米、亞微米
3、甚至納米厚度薄膜的力學(xué)性能提供了基礎(chǔ)。并對(duì)借助于雙層薄膜微橋?qū)嶒?yàn)法評(píng)價(jià)薄膜力學(xué)性能的樣品設(shè)計(jì)進(jìn)行了研究。在此基礎(chǔ)上,提出了采用(A/B)n型多層薄膜評(píng)價(jià)納米尺度效應(yīng)及界面效應(yīng)以及采用臨界長(zhǎng)度方法評(píng)價(jià)薄膜屈服強(qiáng)度的實(shí)驗(yàn)方法。 本文還對(duì)曲折FeCuNbCrSiB/Cu/FeCuNbCrSiB三明治多層薄膜巨磁阻抗和巨應(yīng)力阻抗效應(yīng)進(jìn)行了研究,隨磁場(chǎng)增加,其橫向巨磁阻抗效應(yīng)顯示了鐘形變化趨勢(shì),這與由外磁場(chǎng)引起的橫向去磁場(chǎng)效應(yīng)導(dǎo)致的磁導(dǎo)率
4、的變化密切相關(guān),其縱向巨磁阻抗效應(yīng)顯示了線形變化趨勢(shì),沒有觀察到對(duì)應(yīng)于各向異性場(chǎng)的峰值,可能與各向異性場(chǎng)偏離橫向方向有關(guān),其應(yīng)力阻抗效應(yīng)隨懸臂梁撓度增加而線形增加,這與拉應(yīng)力相關(guān)的磁彈性效應(yīng)引起的各向異性場(chǎng)進(jìn)一步偏向縱向有關(guān)。隨頻率增加,磁阻抗和應(yīng)力阻抗效應(yīng)都顯示了單峰變化趨勢(shì),特征頻率為5MHz,這與磁化機(jī)制由磁疇壁移動(dòng)為主向磁化強(qiáng)度轉(zhuǎn)動(dòng)為主的轉(zhuǎn)變相關(guān)。隨Cu層寬度增加,巨磁阻抗效應(yīng)顯示了周期振蕩的變化趨勢(shì),與現(xiàn)存阻抗理論相矛盾,進(jìn)一
5、步的研究需要來(lái)揭示其變化規(guī)律。 對(duì)FeCuNbCrSiB薄膜的DSC以及不同溫度退火的XRD結(jié)果的分析表明,存在著兩個(gè)主要的納米晶化過(guò)程,分別對(duì)應(yīng)于FeSi和FeB相的析出,薄膜在低于300℃時(shí)為非晶態(tài),而在400℃時(shí)FeSi相析出并與非晶基體共存,高于500℃時(shí)FeB相開始出現(xiàn),此時(shí)晶體相在薄膜中占主要,薄膜的納米硬度和楊氏模量在8.8~12.34GPa和150-197.5MPa范圍內(nèi)變化,退火溫度低于400℃時(shí),硬度隨退火溫
6、度增加顯示了減小的趨勢(shì),可能與非晶基體的弛豫有關(guān),進(jìn)一步增加退火溫度導(dǎo)致硬度和楊氏模量的增加,與薄膜中納米晶比率增加有關(guān);對(duì)薄膜磁滯回線的研究表明,預(yù)沉積薄膜具有優(yōu)良的軟磁性能,在300℃時(shí)性能達(dá)到最優(yōu),但納米晶化階段其軟磁性能急劇下降。對(duì)樣品不同溫度退火前后的比較證實(shí)了在300℃時(shí)GMI得到了提高,而更高溫度則有降低GMI的趨勢(shì),GMI退火研究結(jié)果可以為改善巨磁阻抗和應(yīng)力阻抗效應(yīng)提供參考。 對(duì)曲折NiFe/Cu/NiFe三明治
7、薄膜磁阻抗、磁電阻及磁電抗效應(yīng)和巨應(yīng)力阻抗效應(yīng)的研究表明,隨磁場(chǎng)增加,其橫向磁阻抗和磁電抗顯示了鐘形變化趨勢(shì),其縱向磁阻抗和磁電抗效應(yīng)在各向異性場(chǎng)20Oe附近觀察到了峰值,兩種情況下磁電阻效應(yīng)快速增加,這表明與磁導(dǎo)率相關(guān)的電抗對(duì)薄膜磁阻抗變化起到了主要作用。隨頻率增加,磁阻抗效應(yīng)出現(xiàn)單峰變化趨勢(shì),其峰值頻率為5MHz,但磁電阻效應(yīng)逐漸增加,在10MHz時(shí)達(dá)到飽和,磁電抗效應(yīng)則是逐漸減小,因此,低頻時(shí)和高頻時(shí),磁電阻和磁電抗分別對(duì)阻抗效應(yīng)
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