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![Z-掃描表征技術(shù)與分散黃-7薄膜的光學(xué)非線性研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/7/23/42bfc069-9aac-49ed-9d53-4f8f4511b3f2/42bfc069-9aac-49ed-9d53-4f8f4511b3f21.gif)
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1、Z-掃描技術(shù)是表征材料三階光學(xué)非線性的一種重要而靈敏的方法;不僅可以測(cè)量三階非線性極化率(x(3))的實(shí)部(Re[x(3)])與虛部(Im[x(3)])的大小,同時(shí)又可以確定其符號(hào)的正負(fù)。在改變?nèi)肷涔馐牟ㄐ芜M(jìn)而影響Z-掃描測(cè)量精度的基礎(chǔ)上,利用數(shù)值方法模擬Z-掃描的透射率曲線,不同透射率的三種入射光束與top-hat光束比較對(duì)Z-掃描測(cè)量靈敏度的影響,得出采用高斯-貝塞爾光束的閉孔Z-掃描曲線的靈敏度最高,其次是高斯光束,而愛(ài)里斑光束
2、的測(cè)量靈敏度最低。但由于實(shí)驗(yàn)過(guò)程中得到的高斯-貝塞爾光束不易加以確認(rèn),所以在實(shí)驗(yàn)上利用靈敏度較高的top-hat光束進(jìn)行測(cè)量。對(duì)top-hat光束,由小孔所截取的透射率為0.1-1.0的高斯光束進(jìn)行測(cè)量并比較了其Z-掃描的透射率曲線,發(fā)現(xiàn)通過(guò)改變透過(guò)率不同的入射光束的小孔的半徑可以提高Z-掃描測(cè)量靈敏度。 在研究分散黃-7薄膜的光學(xué)非線性過(guò)程中,發(fā)現(xiàn)此材料不僅有三階光學(xué)非線性,還有不容忽略的五階光學(xué)非線性。為了分析這種光學(xué)非線性
3、機(jī)制,在理論上采用了有效的數(shù)值擬合的方法對(duì)三階和五階光學(xué)非線性加以區(qū)分。在實(shí)驗(yàn)上使用Nd:YAG染料皮秒脈沖激光器,入射波長(zhǎng)為1064nm,35ps脈沖周期下采用top-hat光束測(cè)量并分析了分散黃-7薄膜的三階和五階共存時(shí)的光學(xué)非線性。 對(duì)于具有不能忽略的五階光學(xué)非線性的材料,采用多次的不同光強(qiáng)度下的Z-掃描實(shí)驗(yàn)是必須的。通過(guò)對(duì)分散黃-7薄膜的測(cè)量發(fā)現(xiàn),如果Z-掃描曲線的峰-谷間距總是不斷提高的,則說(shuō)明樣品中三階非線性折射系數(shù)
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