攝影測量自檢校技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在攝影測量與遙感技術應用中,相機的幾何檢校是消除系統(tǒng)誤差、提高攝影測量系統(tǒng)精度的重要環(huán)節(jié),其中自檢校技術是目前公認最靈活、有效的方法,自檢校模型的正確建立是保證高精度攝影測量的核心。
  目前,在航空攝影測量中,許多自檢校附加參數(shù)并無明顯的物理或數(shù)學意義,容易產(chǎn)生過度參數(shù)化問題,且這些參數(shù)之間往往存在很強的相關性。在近景攝影測量與無人機遙感中,進行相機檢校的經(jīng)典模型——10參數(shù)模型存在很強的相關性,這些自檢校參數(shù)之間的強相關性會給

2、測量的最終結(jié)果帶來不利影響。
  本文以數(shù)字相機自檢校技術為主要研究對象,在閱讀相關資料與文獻的基礎上,側(cè)重從數(shù)學理論上對自檢校技術進行深入分析,尋求自檢校技術背后的理論基礎,解決參數(shù)之間強相關性及過度參數(shù)化等問題,并通過試驗驗證,得到了一些有益的結(jié)論。論文完成的主要工作和創(chuàng)新點包括:
  (1)通過理論分析,揭示了攝影測量自檢校模型的構建,其實質(zhì)就是數(shù)學中的函數(shù)逼近問題,此理論也是本文所做所有工作的理論基礎。同時,此理論為

3、許多經(jīng)典自檢校模型(如Ebner模型、Grun模型)在數(shù)字攝影測量時代的使用,提供了堅實的數(shù)學基礎。Ebner模型和Grun模型提出的時代背景與使用條件與目前的情況已有很大不同,這些模型仍然具有生命力,就是因為它們符合函數(shù)逼近理論。
  (2)在函數(shù)逼近理論的基礎上,以勒讓得正交多項式為基函數(shù),構建了勒讓得自檢校模型。通過試驗驗證,勒讓得自檢校模型比Ebner模型、Grun模型具有更好的適用性,處理復雜畸變時,能提供更高的檢校精度

4、。
  (3)在函數(shù)逼近理論的基礎上,以傅立葉級數(shù)為基函數(shù),構建了傅立葉自檢校模型。傅立葉自檢校模型的附加參數(shù)之間是完全獨立的,所以它在理論上比勒讓得模型更加嚴密。通過試驗驗證,在達到同樣檢校精度的前提下,傅立葉模型用到的附加參數(shù)更少,能有效避免過度參數(shù)化問題。
  (4)提出了一種面內(nèi)畸變改進模型,通過試驗驗證,改進模型能夠有效改善Brown模型的強相關性,獲得更好的檢校結(jié)果,改進的面內(nèi)畸變精確化模型更適用于近景相機攝影標

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