CXM100-2W移相式斐索干涉儀關鍵技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、光干涉計量測試技術是一種高精度測量技術，在光學系統(tǒng)光學參數(shù)測量上有廣泛用途。結合CXM100-2W式干涉儀的研制，研究了項目所涉及的關鍵技術。綜述了干涉儀在光學面形，光學系統(tǒng)，像質評價上的一些應用。研究了測量光學材料的折射率不均勻性5種方法，建立了四步測量法的數(shù)理模型，并且在所研制的CXM100-2W式干涉儀上進行了樣品材料的具體測量，在消除了系統(tǒng)誤差的情況下，準確的得到了樣品材料的折射率不均勻性分布。針對實驗室球徑儀長期使用后測量環(huán)磨

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