1、由于具有導電、導熱能力以及卓越的機械可塑性，金屬銅被廣泛在工業(yè)上應用。然而在一些腐蝕性離子如Cl-存在的腐蝕溶液中，銅容易受到腐蝕。在眾多銅的防腐方法中，最有效的是在銅表面覆蓋有機緩蝕劑。目前有關銅的緩蝕劑研究眾多，研究重點主要集中在緩蝕劑的防腐性能上，有關緩蝕劑與銅作用機理的研究尚少。本論文就著眼于探討緩蝕劑分子在金屬表面的吸附構型和防腐能力的關系。自組裝單分子膜(Self-assembledmonolayers，SAMs)是在基底表

2、面形成可控的、均一整齊的分子層的技術，該技術為研究緩蝕劑在金屬表面的構效關系提供了一個理想的模型。(SurfaceEnhancedRamanScattering，SERS)是一種可用于探究緩蝕劑分子吸附行為的高靈敏檢測技術。SERS能夠提供豐富的分子振動信息，便于研究緩蝕劑分子吸附結構，探討緩蝕劑分子與金屬基底間的相互作用。電化學交流阻抗譜方法(ElectrochemicalImpedancespectroscopy，EIS)作為一種無

3、損、靈敏的檢測技術，被廣泛用作緩蝕劑性能的評估。電化學極化曲線(Electrochemicalelectrochemicalpolarizationcurve)能夠提供金屬腐蝕速率和緩蝕劑防腐效率等信息，也是緩蝕研究中的一種重要手段。本文將SAMs，SERS與電化學技術聯(lián)用，研究甲基咪唑(MMI)等緩蝕劑分子與金屬表面的作用機理，并評價其緩蝕性能。根據(jù)以上設想，本論文從以下幾個方面展開：
　　 1.考察了鹵素離子種類(Cl-、B

4、r-、I-)及濃度對于甲基咪唑(MMI)在銅電極表面的表面增強拉曼光譜(SERS)的影響。當MMI組裝濃度為1×10-5M時，加入0.1MKCl溶液能得到清晰的MMI的SERS光譜。而當組裝濃度為1×10-7M時，加入飽和KCl溶液也可以得到MMI的SERS光譜。結果表明，對于此類體系其他鹵素離子(Br-、I-)對于MMI的SERS信號同樣有增強作用。
　　 2.利用SERS，EIS和電化學極化曲線技術研究了2-氨基-5-(4-

5、吡啶)-1，3，4噻二唑(4-APTD)自組裝分子層在銅表面的構型與防腐性能。修飾4-APTD分子后的銅電極的EIS譜圖擬合為R(Q(RW))(CR)。電化學極化曲線表明，4-APTD分子膜對金屬銅具有良好的防腐性能，其防腐效率可以達到93.1％。SERS研究證明4-APTD分子以C2，N3和N12原子為位點以斜躺的方式吸附在銅電極表面。電化學原位SERS證明了，當電位由-0.2V到-0.6V的過程中，4-APTD分子的吸附構型發(fā)生了改

6、變。
　　 3.通過EIS，電化學極化曲線和SERS討論了4-甲基-4H-3-巰基-1，2，4-三氮唑(MTTL)在銅表面的自組裝分子層的電化學緩蝕性能。修飾MTTL分子后銅電極的EIS機理通過R(QR)(QR)(CR)等效電路擬合。電化學極化曲線實驗結果表明MTTL的防腐效率可達到81.1％。SERS實驗證明MTTL分子以傾斜的構型通過S6和N2原子與銅表面產生強烈的相互作用，并且在-0.5V電位下，存在只以S6為位點的吸附過